直讀光譜儀的光柵是光譜儀器當(dāng)中的最重要的一個(gè)部件，直讀光譜儀主要原理就是將分光，檢測(cè)分開的光束，以達(dá)到最后檢測(cè)效果。那直讀光譜儀光柵又是怎么做的呢？主要有以下四種方法：
制造光柵的方法有機(jī)械刻劃，光電刻劃， 光柵復(fù)制和全息照相刻劃四種。
機(jī)械刻劃
機(jī)械刻劃是古老方法，但可靠，間隙刻劃技術(shù)比較成熟。但要刻劃一塊100X100mm的光柵（刻劃?rùn)C(jī)的刻劃速度為15-25條/分）計(jì)算須要4個(gè)晝夜。因此要求機(jī)器、環(huán)境在長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)保持精確恒定不變。
光電刻劃
光電刻劃就是利用光電控制的方法可以在某種程度上排除光柵刻劃過(guò)程中機(jī)械變動(dòng)和環(huán)境條件改變所產(chǎn)生的各種刻劃誤差。它一方面提高了光柵刻劃質(zhì)量，另一方面也能在一定程度上簡(jiǎn)化機(jī)械結(jié)構(gòu)、降低個(gè)別零件的精度和對(duì)周圍環(huán)境的要求。
光柵復(fù)制
光柵刻劃時(shí)間長(zhǎng)和效率低，因此成本很高，不能滿足光譜儀器的需求。目前復(fù)制法有二種：一次復(fù)制法就是真空鍍膜法。二次復(fù)制法是明膠復(fù)制法。一次復(fù)制法是一次制成，而二次復(fù)制法是先復(fù)制母光柵的劃痕，然后用該劃痕印劃在毛胚的明膠上。
二次復(fù)制的工藝比較煩瑣，但需要設(shè)備和條件都比較簡(jiǎn)單，明膠法復(fù)制光柵質(zhì)量是比母光柵差些。
光柵的刻劃
全息照相刻制
全息照相刻制具有以下優(yōu)點(diǎn)
①改變激光器的波長(zhǎng)，可以制造整個(gè)光譜區(qū)所需要的光柵。
②全息照相刻劃原則上無(wú)尺寸限制可制大光柵。
③可制造平面和凹面光柵。
④生產(chǎn)效率高、成本低，促使全息照相刻劃光柵獲得迅速的發(fā)展。
所以直讀光譜儀的光柵刻劃方法就是有以上四種。